繁楓真空
Fanfeng vacuum
在半導體工業中使用的氣體和反應生成物都要通過真空泵中，這些物質與空氣和濕氣混合能形成氧化物，有些能自燃引起爆炸，因此在半導體工藝中使用的真空泵要經過這些惡劣環境的考驗。一般來說，在真空泵中出現顆粒物有三種情況。
1，有時泵內壓力增高而引起氣固變態過程的發生；
2，在泵內氣體成分的反應生成物；
3，抽氣過程混入的顆粒物。
清潔、耐用、低噪等都是干式真空泵的實用標簽。但在實際的干式真空泵應用中，干式真空泵也分接觸型與非接觸型。
因在處理一些含顆粒物氣體過程中，并不是所有的干式真空泵都如螺桿真空泵、羅茨真空泵等非接觸型泵種一樣對顆粒氣體有良好耐受性，而是需要通過過濾設備來予以解決。
此外即使是對顆粒性氣體有良好耐受性的非接觸性干式真空泵，為防止意外，也需要盡量避免介質在真空泵泵內由于化學反應或氣固變相形成顆粒物。對此，除常規的過濾裝置外，對此總結的做法還包括：
1 適當提高泵溫
物質的升華、凝固是壓力與溫度的函數，隨物質不同各有變化。因此提高泵內溫度可以避免一些介質在泵內壓縮過程中發生氣固變相而形成顆粒物。
如Al在刻蝕過程中生產的氯化鋁，在對應壓力下，其在80℃就會開始氣化，因此在將泵內溫度保持在80℃就可有效避免氯化鋁的固化沉積。
2 降低反應氣體的濃度
單位時間內氣體反應生成顆粒數量與氣體濃度相關，所以在干式真空泵抽取這類氣體的工藝中可以通過充入惰性氣體，減少反應氣體濃度來降低顆粒物的形成。
這個方法也會用于泵內溫度冷卻，防止介質降解、聚合形成腐蝕性物質等，也可以防止介質達到著火極限等可能，如CVD工藝中可能的爆炸。
3 增加抽氣通道中的氣流速度
為防止處于懸浮狀態的固體顆粒物沉積，使氣體的流動速度大于顆粒物沉積的臨界速度，就可保證顆粒物隨氣流輸送排出，防止沉積。
具體的方法與第2點一樣，在不影響真空泵的極限壓力的前提下充入適量氣體。
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